多晶矽生產剛需：德高潔自動化清洗系統保障電子級潔淨度

多晶矽還原爐鍾罩表面易沉積副產物，影響生產質量，需定期清洗。人工清洗因殘留物具腐蝕性、反應放熱易引發安全隱患，且需嚴格操作。德高潔研發自動化高壓水清洗系統，由多裝置組成，通過水力驅動三維噴頭 360° 清洗，搭配堿液、純水沖洗及熱風烘幹，全流程自動化。系統采用 PLC 控制，可調節參數，全封閉作業避免汙染。

多晶矽是光伏行業和微電子行業的基礎材料，生產多晶矽主要采用改良西門子法，改良西門子法生產多晶矽的反應器主要采用多晶矽還原爐。在多晶矽生產過程中，還原爐鍾罩表面上會沉積一定厚度的多晶矽副產物、矽粉等。但多晶矽生產對還原爐沉積環境的潔淨度要求特別關鍵，任何顆粒性雜質、物料等物質余留在爐內，都會對现有產品質量造成影響。所以在還原爐運行一個周期結束後，需要對還原爐鍾罩內部進行徹底清洗後，再進行下一個周期的化學氣相沉積。

一、多晶矽還原爐鍾罩內部殘留清洗原理及挑戰

殘留物的主要化學成分是Si，能和氫氧化鈉發生氧化還原反應，其他物質有SiO2、(HSiO)2O等，均含弱酸性易與氧化鈉溶液發生中和反應。利用氫氧化鈉溶液，將緊密附着在還原爐內表面的膜狀沉積物腐蝕以便清理，在此清洗原理下，對多晶矽還原爐清洗時需要面臨以下問題：
 
1、因還原爐內殘留物及清洗液均爲具有腐蝕性的化學物質，同時在清洗中殘留氯矽烷會發生水解伴有氫氣產生，且水解反應爲強烈的放熱反應，容易產生爆鳴燃燒。因此，人工清洗過程中具有一定的安全隱患，清洗過程中必須穿戴好勞保用品，並佩戴防護手套；
2、人工用氧化鈉溶液擦洗還原爐鍾罩時，必須操作要緩慢以免摩擦生熱引起着火；
3、清洗中要保證將鍾罩烘烤幹避免有殘留水分，影響下一批次的生產周期及现有產品質量。

二、多晶矽還原爐鍾罩內部自動清洗方式

由于多晶矽還原爐鍾罩的清洗存在一定的安全隱患，行業內需要提供一套安全高效的清洗方式，德高潔結合多晶矽生產工藝及設備需求，獨立自主研發了一套自動化高壓水多晶矽還原爐鍾罩清洗系統，其由高壓熱水動力清洗裝置，熱風淨化烘幹機組、清洗烘幹工作台、PLC電氣控制系統等組成，自動化完成還原爐鍾罩內部的清洗及烘幹流程，減少人工投入，提高清洗效率、質量、環保、安全等性能。

自動化高壓水多晶矽還原爐鍾罩清洗系統整個清洗流程包括：還原爐鍾罩到位→預清洗→清洗劑(堿液)清洗→漂洗→高純水沖洗→淨化熱空氣幹燥→常溫幹燥→鍾罩吊走。其工作原理是以水力自驅動三維自動旋轉噴頭，形成360°的網狀噴射表面，完成鍾罩內部表面的水力掃射，用專用清洗劑等爲主要清洗液，用純水(去離子水或叫脫鹽水)漂洗，最後用高純水沖洗後烘幹，最終完成整個清洗過程。
 
還原爐鍾罩清洗過程中，一次吊裝在一個工作台上完成全部清洗、烘幹過程，清洗時鍾罩底部法蘭和清洗平台組成一個全封閉空間，避免高壓水射流噴射出鍾罩外，對周圍環境及工作人員健康的負面影響。德高潔多晶矽還原爐鍾罩自動清洗系統，采用PLC電氣控制系統，可根據多晶矽實際生產實況調整清洗壓力、流量及清洗時間，在保障清洗質量的同時，節約水資源的浪費，系統同時具有半自動或手動功能，提高工人的適應性。

德高潔多晶矽還原爐鍾罩清洗系統操作簡單，設備安全穩定，其核心部件、元件和附件原裝進口保證了電子級多晶矽鍾罩清洗系統性能的可靠，可以在一套系統實現多種型號鍾罩的清洗烘幹。目前，德高潔在多晶矽還原爐清洗行業已擁有國內90%的用戶，爲多晶矽行業提供了幾十套還原爐清洗系統，經驗豐富，技術可靠。
 
德高潔作爲一家專業的環保清潔設備供應商，在環保除塵、淨化、工業設備清潔領域已積累了近三十年的業內寶貴經驗，自2007年便致力于研發高效率、高環保、高質量的自動化系統，期間自主研發並投入使用了一系列高壓水自動化清洗系統，可對液壓支架、噸桶、罐車、反應釜、罐式集裝箱、儲罐、發酵罐、多晶矽還原爐鍾罩等設備進行自動化清洗，並結合企業實際生產工況，提供可定制化自動清洗解決方案，做到以客戶需求爲基准，用現代技術、標准工藝，竭誠爲客戶服務。